Reticle 是晶片製造的母版， 對缺陷的要求極其嚴格，掩模的缺陷主要分為掩模製造過程的缺陷和掩模使用過程中產生的缺陷, 兩類缺陷都需要及時檢測。STORM 3000系列產品用於Mask Shop、FAB廠 Reticle 表面顆粒及圖形缺陷檢測，適用於180/130nm工藝節點

應用場景:

MaskShop 出廠缺陷檢測 FAB Haze 檢測 支持DB、DD、Starlight多種檢測模式

技術特點:

1. 超高解析度光學系統，採用高NA值UV鏡頭、多Zoom管鏡、UV雷射照明
2. 支援Die2DB、SL、Die2Die檢測模式
3. 支援SMIF Pod自動開盒及自動上下片
4. 採用高精度氣浮平臺及壓電Z軸，保障高倍鏡頭快速平穩掃描
5. 支持反射光、透射光同時檢測
6. 支持OPC校正
7. 支持GPU分散式運算

客戶價值

高速，高精度掩模版檢測，提升良率，降低客戶TCO

DB檢測:

OPC校正:

Starlight檢測:

安裝條件

·  設備尺寸：1800mm (L)x1620mm(W)x2000mm(H)

·  潔淨度：10級

·  設備重量：3500Kg

·  濕度：45%－55%

·  設備功耗：2KW 220Vt

·  壓縮空氣：0.6Mp 無油過濾壓縮空氣

技術指標:

該產品的Demo Video放置下列網站，歡迎前去觀看!

https://youtu.be/Tsvuvkv_b2M

STORM 3000光罩AOI檢測設備-檢測Mask缺陷

https://youtu.be/7nk72uNWLxs

STORM 3000光罩AOI檢測設備-檢測Mask缺陷- Starlight功能